SPI-300
SPI-300
化合物晶圆形貌测量系统
晶圆形貌测量设备,基于光谱共聚焦技术研发,专注于晶圆 THICKNESS(厚度)、TTV(总厚度变化)、BOW(弯曲度)、WARP(翘曲度)及 LTV(局部厚度变化)等外形参数测量与分选
  • 专注于化合物半导体及键合片
  • 适用范围广,具有极高性价比
  • 可提供高精度、高产能晶圆形貌测量