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  • E3500 SiC 缺陷检测设备

    E3500是针对SiC材料的缺陷检测设备，可以检测SiC衬底、同质外延等的表面和荧光缺陷。可以检测并区分三角、carrot、downfall、micropipe、SF、BPD等缺陷。支持4"、6"、8"晶圆检测，具有高产能、高检测精度的优点。

    넶2129 ¥ 0.00

  • F1000晶圆表面颗粒检测设备

    F1000是专门的颗粒检测设备，可以检测Si、Inp等衬底材料商的Particle。最高可检测到51nm的颗粒（Si基PSL wafer）。支持支持4"、6"、8"或8"、12"晶圆检测。


    넶1260 ¥ 0.00

  • E1000 化合物半导体缺陷检测设备

    Eagle1000 化合物半导体缺陷检测设备可以检测蓝宝石，砷化镓，钽酸锂，石英玻璃，磷化銦等衬底及外延片。可以检测并区分颗粒（particle）、凹坑（pit）、凸起（bump）、划伤（scratch）、污点（stain）、裂纹（crack）等缺陷，最小可检测缺陷81nm；支持4"、6"、8"晶圆检测，具有高产能、检测准确和检出率高的优点。


    넶1006 ¥ 0.00

  • E3200 GaN缺陷检测设备

    E3200是针对GaN 功率器件和HB GaN LED应用，可以检测GaN衬底及PSS基GaN、Si基GaN 和SiC基GaN 等外延片的表面和荧光缺陷，最小检测颗粒81nm。可以检测并区分颗粒（particle）、凹坑（pit）、凸起（bump）、划伤（scratch）、污点（stain）、裂纹（crack）、PL 黑点、PL scratch、PL crystal 缺陷等表面及荧光缺陷。支持4"、6"、8"晶圆检测，具有高产能、检测准确和检出率高的优点。


    넶830 ¥ 0.00

  • MOCVD 在线监测系统系列产品

    MOCVD在线监测系统系列产品用于实时监测工艺过程中晶圆的温度，反射率和翘曲度，并提供可靠的温度信号用于控温，适用于各种转速的MOCVD机台。包括温度反射率翘曲度在线监测（viperRTC）、表面温度测量（viper405）、温度校准单元（Calibration Unit）、温场扫描系统（Scanpyro）等产品

    넶609 ¥ 0.00

近紫外测温系统viper405

405nm近紫外测温系统，用于MOCVD工艺薄膜表面温度的测量
近紫外测温系统viper405
넳 넲

l 405测温探头由探测光路，光子计数器，高速计数电路，微处理器控制及电源电路，通讯接口构成

l 探头，控制机箱，运行于PC上的测温软件，构成405测温系统

l 测温范围：650~1300°C

l 噪声：< 1℃ (测量温度>700度时) 

l 带外触发同步功能，可与RT同步工作，实现实时发射率补偿

l 探头体积小：140 x 92 x35mm